LP2000/04实验室高剪切胶体磨结构机理：  

高剪切胶体磨由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用**不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是 向外延伸一级，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分： 硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理，增强刀齿的硬度，起到更耐磨、耐 腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、无死角、处理量大、均质细化效果好。

实验室高剪切胶体磨运行原理：

高 剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸 入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物 料重新压入精磨区进行研磨破碎，精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一 级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之 后，从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的最小细度可达0.5um。

实验室高剪切胶体磨主要用途：    袁经理  18221416708  QQ：2389543894

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能琪到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。

IKN胶体磨转速:         袁经理  18221416708  QQ：2389543894

7890/13789RPM 可以通过变频调速通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小)。

IKN胶体磨结构：

三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。虽然都是三级结构，但是他们的设计不同理念不同，形状及齿列的结构。

IKN胶体磨磨头的结构：     袁经理  18221416708  QQ：2389543894

沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

实验：

原料及药品：

AKD蜡粉、苯乙烯、丙烯酸丁酯、冰醋酸、丙烯酰胺、高分子阳离子分散剂A、过**铵、DADMAC、铜版原纸。 

主要仪器

PP2000/04实验室胶体磨：上海依肯机械设备有限公司；PP-5型酸度计：德国Startorius公司；涂布棒：天津涂布仪器专业厂。 

纸样          袁经理  18221416708  QQ：2389543894

将长宽为18m m×13mm的铜版原纸放在涂布平台上铺展好，固定，然后采用 #2涂布棒蘸取配置好的表面施胶液对其进行表面涂布施胶，然后在105℃的烘箱中烘烤1.5m in后取出，平衡水分10m in后进行施胶效果测试。 

施胶度测定

采用Cobb值法进行测定，根据施胶抗水性的强弱分别测定1min和2min的Cobb值。 

乳化剂的制备：

将定量高分子阳离子分散剂A与水加入到带有搅拌的三口瓶（上海博赋玻璃仪器有限公司）中，升温到85℃保温0.5h，然后加入称量好的冰醋酸，将系统pH值调至3左右，然后依次加入苯乙烯、丙烯酸丁酯、丙烯酰胺、DADMAC，每种料的添加间隔5m in，搅拌0.5h后加入定量的稀释好的过**铵，滴加时间以0.5h为宜，然后保持**温度85℃进行反应一定时间后，冷却出料即为产品。

新型AKD表面施胶剂的制备

将称量好的A K D 蜡粉升温到6 5℃熔融，缓慢加入升温到7 0℃的乳化剂水溶液中，开动IKN PP2000/04实验室胶体磨至14000r/m i n，分散5min后加入稳定剂，冷却降温至30℃以下。将制得AKD乳液放置12h后加入熟化剂和聚合氯化铝，使其固含量达到38%即为最终产品。