>> 产品特点 
   WB240等离子清洗机/去胶机采用高密度微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理，微波等离子体清洗具有高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。    
微波等离子清洗机主要用途： 
  ·等离子体表面改性
  ·有机物表面等离子去胶
  ·邦定强度增强
  ·等离子体刻蚀应用
  ·等离子体灰化应用
  ·增强或减弱浸润性
  ·其它等离子体系统应用
 ◆ 充气系统
    美国MKS高精度电子质量流量计(2路气体配制)
    美国世伟洛克气体管路及接口组件，德国双级减压阀

    日本SMC及CKD高真空气阀组件

>> 相关应用    

  - 晶圆光刻胶清洗 

  - 去除残胶

  - 晶圆和衬底的清洁