一、等离子体球磨机产品介绍

Plasma-BM-L型等离子体球磨机是将冷场放电等离子体引入到机械球磨中，使机械力作用和等离子体作用协同促进粉末的组织细 化、合金化和活性激活等。其中，等离子体效应主要包括热效应和高能电子轰击效应：

1. 高能高速高温的脉冲电子轰击材料表面，增加粉体表面微区的热应力、应变，导致材料的“热爆”现象；
2. 等离子体中的高温电子轰击断裂的新鲜材料表面，导致粉末微区瞬时极热极冷等现象；
3. 等离子体中的物质微粒都具有高活性，吸附沉积在粉体表面后引起材料表面高能活化，提高粉末的扩散能力。
4. 上述因素共同作用，使该设备在单相和多相复合粉末粒子细化、表面改性、合金化、复合材料制备和气固反应等方面优势明显，并已在纯金属、金属氧化物、硬质合金、储氢合金、锂离子电池负极等材料的制备中显示出独特的优势和很好的应用前景。

二、 Plasma-BM- L型等离子体球磨机基本技术参数

主机尺寸：830×1180×600mm           设备重量：约415Kg

电柜尺寸：610×530×1340mm           球磨方式：振动球磨

大罐容积：1.5L                       平衡罐容积：1.5L

转速范围：950/1450 rpm（双速）       放电方式：介质阻挡放电

振动频率：约24 Hz                    振幅：3～13 mm

最大加速度：9G                       放电电源功率：≤3 KW

放电电流：0～3 A                     放电电压：1～30 kV

放电频率：1～20 kHz                  电机功率：1.1 Kw

进料粒度：≤5 mm                     出料粒度：最小＜0.1 μm

工作电压：380 V                      最大噪音：≤83dB

三、等离子体球磨机工作原理

本产品所使用的介质阻挡放电，是将球磨罐内腔作为放电空间，并在该放电空间中间插入悬挂的可加压电极棒，当在电极上施加足够高的交流电压时，便激发环境中的气体产生等离子体。通过控制放电电压和电流，以及罐内部气氛（气体类型和气压），获得可控强度的电晕或者辉光放电现象，并能与高强度或低强度机械振动能自由匹配。

四、应用案例

1. 等离子体的高能脉冲电子轰击材料表面，诱发粉体微区的热应力、应变，导致粉末颗粒“热爆”细化。
2. 等离子体球磨制备高活性片层状W-C-Co粉末，WC相合成温度降低至960℃，碳化反应和块体致密化过程一步进行，获得高性能含板状WC相的硬质合金。以WC-8Co为例：硬度为92.0~92.4HRA，TRS为3800~4200MPa，KIC为19.0~23.0MPa*m1/2。
3. 等离子体促使片层状的石墨沿着分子键的解理层断裂，逐步变薄形成石墨纳米片结构，可以与Sn、Si、Ge、Fe2O3等嵌锂活性相复合成高性能负极材料。
4. 常温常压下，等离子体球磨可以实现Ti和氨气的完全气固反应。
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